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簡要描述:波蘭 PREVAC 多室 UHV 系統(tǒng) 特高壓 真空唐:I582I984229
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品牌 | 其他品牌 | 應用領(lǐng)域 | 電子,航天,電氣,綜合 |
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波蘭 PREVAC 多室 UHV 系統(tǒng) 特高壓 真空
波蘭 PREVAC 多室 UHV 系統(tǒng) 特高壓 真空
專門用于研究高溫超導體的物理特性(電子能帶結(jié)構(gòu))的定制多室 UHV 系統(tǒng)。
中央徑向分布室與連接的分析室和輔助室允許在真正的 UHV 條件下(壓力
Multitechnique 分析室集成了不同的表面分析方法,如 ARPES、UPS 和 LEED。由 mu-metal 制造,設(shè)計用于比 0.5 meV 更好的能量分辨率
可用于實驗室以及同步加速器光束線上。
水平安裝的分析儀可以輕松旋轉(zhuǎn) 90 度。
框架具有輕松的高度和 xy 調(diào)整,可快速輕松地再現(xiàn)與外部光源(同步加速器或激光)的對齊
AES ARPES EA15 EA15-HP50 IS 40C1 IS 40E1 ISS Kerr效應 MBE MBE Chamber MBE腔室 Prevac PREVAC 離子源 TPD/TDS UHV特高壓多室分析系統(tǒng) UHV表面科學分析系統(tǒng) UPS UVS 40A2 XPS(ESCA) X 射線源 光電子能譜儀 光電子能譜測量儀 半球分析儀 半球能量分析儀 原子力顯微鏡 原子力顯微鏡分析 原子力顯微鏡分析系統(tǒng) 多層薄膜的原位實時磁光Kerr效應 無油真空泵 殘留氣體分析儀 真空光譜儀 真空室 真空油泵 真空泵 真空泵系統(tǒng) 真空測控裝置 真空能量分析 真空能量分析光譜 真空腔 真空表面分析系統(tǒng) 離子源 表面分析系統(tǒng) 超薄磁性薄膜 高壓光發(fā)射光譜特高壓系統(tǒng) 高真空泵
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