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NONSEQUITUR 離子源離子槍

簡要描述：NONSEQUITUR 離子源離子槍 ION GUNS: MODEL 1401 5EV – 5KEV 氣相離子源
Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學實驗，例如使用Auger 和ESCA進行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。

  • 產(chǎn)品型號：MODEL 1401
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2024-08-17
  • 訪  問  量：280

詳細介紹

品牌其他品牌貨號/
規(guī)格常規(guī)供貨周期一個月
主要用途表面化學實驗

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NONSEQUITUR 離子源離子槍 ION GUNS: MODEL 1401 5EV – 5KEV 氣相離子源


Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學實驗，例如使用Auger 和ESCA進行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。


在工作距離為25毫米，束流大小為20安時,光斑為直徑0.4毫米.相比較于其他的離子槍而言,離子槍型號1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當束流為1 A時,光斑最小可以選擇到50米電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇,并同時保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調(diào)節(jié),并不受電子束能量的影響,無需外部設備,可以直接從前面板進行調(diào)節(jié)。

通過電子沖擊來生成離子,雙燈絲設計可以延長使用壽命,而無需中斷設備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態(tài),以防止燈絲材料沉積到樣品上。
離子源可以直接或通過單獨的渦輪泵差動泵入系統(tǒng)，以提高系統(tǒng)真空。

帶有電源和掃描電子設備的控制器安裝在一個5-1/4英寸高的19英寸機架安裝柜中。離子槍可以從前面板上控制，也可以通過一個靈活的界面來控制，該界面允許控制射束和聚焦電壓、電離電流、氣體、射束開/關以及光柵。光柵掃描是數(shù)字生成的，用于均勻的蝕刻速率。

NONSEQUITUR 離子源離子槍設計特點:

  • 高電流密度15至50 mA/cm2，取決于所選的斑點尺寸。
  • 穩(wěn)定發(fā)射的離子源設計。
  • 典型燈絲壽命大于500小時的雙鎢絲。氧化釔涂層銥可選。
  • 可更換的光束微調(diào)孔，典型壽命> 500小時。
  • 制造中使用的所有UHV兼容和抗蝕刻材料。
  • 差動泵送使主室氣體負荷最小化。
  • 噴槍易于拆卸，便于維護。
  • 電氣連接和氣體入口位于一個法蘭上，便于安裝。
  • 預設提取和聚光透鏡參數(shù)(三個光斑尺寸設置)，可重復操作。
  • 整體束流測量。
  • 離子源壓力的直接測量。
  • 系統(tǒng)和電纜聯(lián)鎖裝置可防止在真空不良或電纜拆除的情況下激發(fā)高壓。
  • 單個5-1/4高19英寸機架安裝外殼中的電源和光柵發(fā)生器。
  • 用于均勻蝕刻輪廓的數(shù)字生成光柵選項。
  • 計算機控制選項。
  • 可選離子源壓力調(diào)節(jié)。


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