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NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源

簡要描述：NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調節(jié)

  • 產品型號：MODEL 1407
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2024-08-17
  • 訪  問  量：298

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域化工,能源,電子,電氣,綜合

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NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調節(jié)


NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 設計特點


緊湊型離子源，雙等離子發(fā)射器

  • 可調節(jié)的束斑， ≥ 15µm ，用于空間定義的濺射
  • 可調節(jié)發(fā)射，提供穩(wěn)定的束流，前面板可調動態(tài)范圍 x300
  • 連續(xù)可變電子束能量，最高達 5keV
  • 用于電子束掃描和校正的雙電極
  • 用于減小束斑大小的預目標透鏡偏轉
  • 集成束流大小監(jiān)測
  • 燈絲不直接到樣品，避免不必要的樣品污染
  • 可更換電子束修剪孔徑板，典型使用壽命> 500 hours
  • 提供雙燈絲備份
  • 內部源壓力傳感器，允許監(jiān)控離子源壓力
  • 采用適合超高真空和耐蝕刻的材料
  • 差速泵，以盡量減少主腔室氣體負載
  • 在惰性氣體下運行

離子源（英文名稱：Ion source）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的部件。


氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子，并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途，已研制出多種類型的離子源。使用較廣泛的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎的,常被籠統(tǒng)地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的，也有廣泛的用途。新型重離子源的出現(xiàn)，使重離子的電荷態(tài)顯著提高,其中較成熟的有電子回旋共振離子源(ECR)和電子束離子源(EBIS)。負離子源性能較好的有轉荷型和濺射型兩種。在一定條件下，基于氣體放電過程的各種離子源，都能提供一定的負離子束流。


離子源是一門具有廣泛應用領域的學科，在許多基礎研究領域如原子物理、等離子化學、核物理等研究中，離子源都是十分重要的設備。


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